目前制造7nm以下芯片，全部采用光刻技术。而EUV光刻机，则是制造7nm以下芯片，必不可少的设备，全球只有ASML一家能够生产，最便宜的EUV光刻机，都需要1.5亿欧元左右一台。

佳能的NIL设备虽然在技术上具有深远意义，但面向中国市场的机会却因政策壁垒而受阻。然而，半导体行业的发展并不会停滞不前，良好的市场需求与政策支持或将推动技术的进步与行业的变革。中国的芯片制造商需要更加努力地探索自主创新之路，同时在日常工作中不断学习使 ...

IT之家 9 月 27 日消息，佳能日本东京当地时间昨日宣布，将在同日向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所（TIE）交付佳能最先进的纳米压印光刻 NIL 系统 FPA-1200NZ2C。

Canon采用“纳米压印”（Nano-imprint Lithography，NIL）技术的微影设备首度进行出货，对象为美国半导体联盟“Texas Institute for ...

佳能宣布向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所（TIE）交付先进的纳米压印光刻NIL系统FPA-1200NZ2C。该设备能够实现最小14nm线宽的图案化，支持5nm制程逻辑半导体生产，并将在TIE用于先进半导体的 ...

高手在民间，大哥这个动作真是太厉害了！

开学第一天，妈妈精心打扮要送儿子上学被拒 ...

因为除了中国之外，佳能找不到更合适的，大量需要NIL设备的国家或地区了，毕竟另外能够制造5nm芯片的intel、台积电、三星都有大量的EUV生产线，切换成NIL生产线，几乎不可能。

【ITBEAR】9月27日消息，佳能公司近日宣布，已向位于美国得克萨斯州的半导体研究机构——得克萨斯电子研究所（TIE）成功交付了其先进的纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C。这一设备的交付标志着半导体制造领域迎来了一项重大技术突破。

由于其电路图形转移过程不经过光学步骤，NIL 光刻设备可以在晶圆上忠实再现掩模中的精细电路图形。此外 NIL 光刻设备还具有低功耗低成本的优势。