近日,韩媒《时事周刊e》报道称,三星电子在其最新一代3nm工艺制程技术上遭遇重大挑战,其中第一代和第二代3nm工艺——SF3E-3GAE和SF3-3GAP的良率分别约为60%和20%。这一现象远未达到高通、英伟达等潜在大客户所期待的70%良率,显著影响了三星在高端制程领域的竞争力。作为全球最大的半导体制造商之一,三星此种情况不禁让人对其市场前景产生担忧。 主要问题在于三星的生产工艺与其竞争对手台积 ...
据韩媒报道,三星电子的第1、2代3nm工艺(SF3E-3GAE与SF3-3GAP)目前的良率分别为60%和20%左右。这一水平并未达到潜在客户(如高通、英伟达)所要求的70%,因此三星无法在最先进制程上与台积电争夺订单,这直接影响了 ...
IT之家 11 月 7 日消息,韩媒《时事周刊 e》(Sisa Journal e)当地时间今日报道称,三星电子第 1、2 代 3nm 工艺(IT之家注:即 SF3E-3GAE 与 SF3-3GAP)目前良率分别为 60% 和 20% 左右。
IT之家 11 月 7 日消息,韩媒《时事周刊 e》(Sisa Journal e)当地时间今日报道称,三星电子第 1、2 代 3nm 工艺(IT之家注:即 SF3E-3GAE 与 SF3-3GAP)目前良率分别为 60% 和 20% 左右。
具体来说,三星原本计划即将开始量产的“SF3”工艺,实际上尚未建立起正常的量产体系。根据《韩国时报》9月12日的报道,到2024年第二季度末 ...
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