佳能的NIL设备虽然在技术上具有深远意义，但面向中国市场的机会却因政策壁垒而受阻。然而，半导体行业的发展并不会停滞不前，良好的市场需求与政策支持或将推动技术的进步与行业的变革。中国的芯片制造商需要更加努力地探索自主创新之路，同时在日常工作中不断学习使 ...

目前制造7nm以下芯片，全部采用光刻技术。而EUV光刻机，则是制造7nm以下芯片，必不可少的设备，全球只有ASML一家能够生产，最便宜的EUV光刻机，都需要1.5亿欧元左右一台。

2024年9月26日，佳能公司宣布，已于9月26日向总部位于美国德克萨斯州的半导体联盟——德克萨斯电子研究所 （TIE） 运送其最先进的纳米压印光刻 （NIL） 系统FPA-1200NZ2C ...

IT之家 9 月 27 日消息，佳能日本东京当地时间昨日宣布，将在同日向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所（TIE）交付佳能最先进的纳米压印光刻 NIL 系统 FPA-1200NZ2C。

近日，瑞仪光电宣布以约2.847亿欧元（约新台币102亿元）收购丹麦公司NIL Technology ApS（NILT）全部股权，瑞仪光电将藉此跨足显示器以外的各大产业，进军当红的超构光学（Meta-Optics）领域，扩大接单量能，冲刺转型。

在2023年10月13日，佳能正式发布了全球首款NIL系统FPA-1200NZ2C，成为了全球首个将采用 NIL 技术的半导体制造系统商业化的公司，该技术以不同于传统投影曝光技术的方法形成电路图案。

由于其电路图形转移过程不经过光学步骤，NIL 光刻设备可以在晶圆上忠实再现掩模中的精细电路图形。此外 NIL 光刻设备还具有低功耗低成本的优势。

IT之家 9 月 27 日消息，佳能日本东京当地时间昨日宣布，将在同日向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所（TIE）交付佳能最先进的纳米压印光刻 NIL 系统 FPA-1200NZ2C。得克萨斯电子研究所成立于 2021 ...

Canon采用“纳米压印”（Nano-imprint Lithography，NIL）技术的微影设备首度进行出货，对象为美国半导体联盟“Texas Institute for ...

【ITBEAR】9月27日消息，佳能公司近日宣布，将向位于美国得克萨斯州的半导体研究联盟——得克萨斯电子研究所（TIE），交付其尖端的纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C。这一举措预示着佳能在半导体制造领域的技术实力将获得更广泛的应用与认可。

【ITBEAR】9月27日消息，佳能公司近日宣布，已向位于美国得克萨斯州的半导体研究机构——得克萨斯电子研究所（TIE）成功交付了其先进的纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C。这一设备的交付标志着半导体制造领域迎来了一项重大技术突破。

这几天的小米SU7全网首燃事件引发了车圈的广泛关注，很多网友有些阴谋论的表示：友商的等待这一天已经很久了。今天就让我们来回顾一下这次事件，细数一下小米汽车的功与过。2024年9月16日上午10:03左右，在南京南站附近的一处道路上，一辆小米SU7试乘 ...